在半導(dǎo)體制作上，國內(nèi)廠商需求打破的不只是光刻機等中心設(shè)備，光刻膠也是重要的一環(huán)。南大光電日前宣告，該公司研制的高端ArF光刻機現(xiàn)已取得了國內(nèi)某企業(yè)的認(rèn)證，用于55nm工藝制作。

　　南大光電于5月31日晚間發(fā)布公告，控股子公司寧波南大光電自主研制的ArF光刻膠繼2020年12月在一家存儲芯片制作企業(yè)的50nm閃存渠道上經(jīng)過認(rèn)證后，近來又在邏輯芯片制作企業(yè)55nm技能節(jié)點的產(chǎn)品上取得了認(rèn)證打破，標(biāo)明公司光刻膠產(chǎn)品已具有55nm渠道后段金屬布線層的工藝要求。

　　在光刻機市場上，國內(nèi)自給率極低，歐美日等區(qū)域的廠商占有首要比例，JSR、信越化學(xué)等TOP5廠商占有全球87%的比例。

　　光刻膠有不同的技能類別，低端的中g(shù)線/i線%，KrF光刻膠自給率缺乏5%，而高端的ArF光刻膠徹底依靠進(jìn)口，是國內(nèi)半導(dǎo)體的卡脖子技能之一。

　　盡管南大光電的ArF光刻膠現(xiàn)在經(jīng)過的是55nm工藝認(rèn)證，但ArF光刻膠包括的工藝技能很廣，可用于90nm-14nm乃至7nm技能節(jié)點制作工藝，廣泛應(yīng)用于高端芯片制作(如邏輯芯片、 存儲芯片、AI芯片、5G芯片和云核算芯片等)。(作者：憲瑞)

　　在半導(dǎo)體制作上，國內(nèi)廠商需求打破的不只是光刻機等中心設(shè)備，光刻膠也是重要的一環(huán)。南大光電日前宣告...

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